Die Nachricht über die Produktion eigener Immersionslithografie-Anlagen in China hat an den internationalen Aktienmärkten deutliche Reaktionen ausgelöst. Besonders betroffen war der niederländische Halbleiterausrüster ASML, dessen Kurs innerhalb von zwei Handelstagen um rund zehn Prozent nachgab. Der Rückgang vernichtete zeitweise mehr als 60 Milliarden Euro an Börsenwert. Im Mittelpunkt der Sorgen steht die Frage, ob China seine bisherige Abhängigkeit von ausländischer Lithografietechnik schneller als erwartet verringern und damit die dominante Marktposition von ASML gefährden könnte. (Reuters)
Nach Informationen von Reuters hat die staatliche Shanghai Aishengna Electronic Technology Group mit der Produktion selbst entwickelter Immersionssysteme für die Deep-Ultraviolet-Lithografie, kurz DUV, begonnen. Das Unternehmen soll dafür Fachkräfte und Entwicklungsteams mehrerer chinesischer Lithografieunternehmen zusammengeführt haben. Erste Anlagen sollen noch 2026 an große chinesische Chiphersteller wie SMIC, Hua Hong Semiconductor und ChangXin Memory Technologies ausgeliefert werden. Berichten zufolge ist zunächst eine geringe Stückzahl vorgesehen: etwa fünf Systeme im laufenden Jahr und rund 20 weitere im Jahr 2027. (Reuters)
Immersions-DUV ist eine zentrale Technologie der modernen Halbleiterproduktion. Bei dem Verfahren befindet sich eine dünne Schicht hochreinen Wassers zwischen der Projektionsoptik und dem Siliziumwafer. Dadurch lässt sich die Auflösung gegenüber konventionellen DUV-Anlagen verbessern. Die Technologie ist seit mehr als zwei Jahrzehnten im industriellen Einsatz und wird auch weiterhin für zahlreiche Fertigungsschritte benötigt. Sie ist daher keineswegs überholt, auch wenn für besonders anspruchsvolle Strukturen zunehmend die technisch komplexere Extreme-Ultraviolet-Lithografie, kurz EUV, verwendet wird.
ASML nimmt auf beiden Gebieten eine führende Stellung ein. Bei Immersions-DUV verfügt das Unternehmen aufgrund kontinuierlicher Verbesserungen bei Produktivität, Präzision und Ausbeute über eine nahezu marktbeherrschende Position. Frühere Wettbewerber wie Nikon und Canon wurden in diesem Segment weitgehend zurückgedrängt. Bei EUV ist ASML gegenwärtig der einzige kommerzielle Anbieter entsprechender Produktionsanlagen. Diese Systeme arbeiten mit extrem ultraviolettem Licht, Vakuumkammern und hochpräzisen Spiegeln. Sie werden insbesondere für die Fertigung modernster Prozessoren und Speicherchips benötigt.
Die chinesischen DUV-Anlagen ändern an dieser technologischen Rangordnung zunächst wenig. Nach den bisher verfügbaren Informationen liegen sie bei Leistung und Zuverlässigkeit hinter den Systemen von ASML und müssen noch unter realen Produktionsbedingungen getestet und qualifiziert werden. Für einen Chiphersteller reicht es nicht aus, dass eine Lithografieanlage grundsätzlich funktionsfähig ist. Entscheidend sind unter anderem die Anzahl der belichteten Wafer pro Stunde, die Positionierungsgenauigkeit, die Verfügbarkeit der Maschine, der Wartungsaufwand und die erreichbare Chipausbeute. Bereits geringe Unterschiede können die Produktionskosten erheblich beeinflussen.
Auch das zunächst vorgesehene Fertigungsvolumen ist zu gering, um ASML kurzfristig spürbare Marktanteile abzunehmen. Der niederländische Konzern liefert jährlich weit über hundert Immersionssysteme aus und verfügt über ein umfangreiches internationales Servicenetz sowie langjährige Beziehungen zu den weltweit führenden Halbleiterproduzenten. Ende 2025 belief sich der Auftragsbestand von ASML auf 38,8 Milliarden Euro. Für 2026 erwartete das Unternehmen einen Gesamtumsatz zwischen 34 und 39 Milliarden Euro. (ASML)
Für chinesische Hersteller gelten allerdings andere wirtschaftliche Maßstäbe als für Unternehmen in Ländern ohne Exportbeschränkungen. China kann seit Jahren keine EUV-Systeme von ASML beziehen. Darüber hinaus wurden die Ausfuhr und teilweise auch die Wartung bestimmter fortschrittlicher DUV-Anlagen eingeschränkt. Ein chinesischer Chiphersteller könnte deshalb bereit sein, eine weniger leistungsfähige heimische Maschine einzusetzen, wenn die Alternative darin besteht, langfristig keinen gesicherten Zugang zu ausländischer Technologie zu haben. Aus chinesischer Sicht sind Versorgungssicherheit und technologische Unabhängigkeit unter diesen Bedingungen möglicherweise wichtiger als die niedrigsten Produktionskosten.
Die Entwicklung hat daher vor allem strategische Bedeutung. China demonstriert, dass es auch bei einer technisch besonders anspruchsvollen Schlüsseltechnologie Fortschritte erzielt. Eine erfolgreiche Qualifizierung der Anlagen könnte den chinesischen Herstellern mittelfristig eine zusätzliche Ausweichmöglichkeit eröffnen. Gleichzeitig dürften staatliche Förderung, geschützte Absatzmärkte und enge Beziehungen zu heimischen Chipproduzenten den Aufbau einer eigenen Zulieferindustrie erleichtern.
Aus der Beherrschung von Immersions-DUV folgt jedoch nicht automatisch die Fähigkeit, EUV-Anlagen herzustellen. Beide Technologien unterscheiden sich grundlegend. EUV erfordert unter anderem eine extrem leistungsfähige Lichtquelle, hochpräzise reflektierende Optiken, Vakuumsysteme, spezielle Masken und außerordentlich komplexe Mess- und Steuerungstechnik. China arbeitet Berichten zufolge auch an eigenen EUV-Systemen, befindet sich dort aber weiterhin in einem frühen Entwicklungsstadium. Eine einfache schrittweise Aufrüstung einer DUV-Anlage zu einem EUV-System ist technisch nicht möglich.
Für ASML ergibt sich somit ein differenziertes Bild. Eine unmittelbare Gefährdung des Kerngeschäfts ist aus den bislang angekündigten chinesischen Produktionszahlen nicht abzuleiten. Der technologische Vorsprung, die industrielle Erfahrung und die etablierte Kundenbasis des Unternehmens bleiben erheblich. Die heftige Kursreaktion erscheint vor diesem Hintergrund zumindest teilweise durch langfristige Befürchtungen und geopolitische Unsicherheit geprägt.
Gleichzeitig wäre es verfehlt, die chinesischen Anlagen lediglich als unbedeutende Kopien älterer Technik abzutun. China verfolgt erkennbar das Ziel, ausländische Ausrüstung in möglichst vielen Bereichen der Halbleiterproduktion durch eigene Lösungen zu ersetzen. Gelingt es den chinesischen Unternehmen, Qualität und Stückzahlen kontinuierlich zu erhöhen, könnte ASML langfristig einen Teil seines wichtigen China-Geschäfts verlieren. China stand 2025 für rund 29 Prozent des Konzernumsatzes; wegen der Exportbeschränkungen entfielen diese Erlöse im Wesentlichen auf DUV-Anlagen und damit gerade auf den Bereich, in dem nun ein heimischer Anbieter entsteht. (Reuters)
Die sachgerechte Einordnung liegt deshalb zwischen Entwarnung und Alarmismus. Chinas Einstieg in die Produktion von Immersions-DUV-Systemen ist ein bedeutender industriepolitischer Fortschritt, aber noch kein Beleg für eine technisch und wirtschaftlich gleichwertige Alternative zu ASML. Kurzfristig bleibt die Bedrohung begrenzt. Langfristig wächst jedoch das Risiko, dass sich in China ein eigenständiges Lithografie-Ökosystem entwickelt und der bislang nahezu unangefochtene Zugang von ASML zum chinesischen Markt schrittweise eingeschränkt wird.